快科技3月21日消息,在当今半导体产业中,ASML无疑是光刻设备领域的王者,全球最先进的半导体制造厂商,如台积电、英特尔、三星等,都高度依赖ASML提供的设备。然而,很少有人知道,这个如今在全球占据主导地位的巨头,最初竟然是从一个漏水的棚子起步的。

根据最新报道,ASML最初是由飞利浦与先进半导体材料国际公司(ASMI)合作创立的,当时,两家公司看到了曝光设备市场的潜力,决定共同建立一家专注于这一领域的新公司。

揭秘全球光刻机巨头ASML:从一个漏水棚子起步

揭秘全球光刻机巨头ASML:从一个漏水棚子起步

不过ASML的起点并不理想,它的第一个基地位于荷兰恩荷芬的Strijp-T原飞利浦园区,那是一个真正会漏水的单层预制建筑,与飞利浦TQ大楼的一楼相连,旧照片显示,当时的ASML基地确实是一个摇摇欲坠的棚子。

在1970年代初的研发基础上,ASML很快推出了其首个系统——PAS 2000 stepper曝光机,公司业务也迎来蓬勃发展。1985年,ASML迁入了专门为它建造的办公室和工厂,巧合的是,ASML与镜头制造商卡尔蔡司的合作关系也在此时签署,并一直持续至今。

进入1990年代,ASML推出了其突破性平台PAS 5500曝光设备,凭借这一成功,ASML凭借其领先业界的曝光设备生产力和分辨率,最终在荷兰和纽约证券交易所成功上市。2001年,ASML推出了第一台采用革命性双级技术的Twinscan机器,如今,ASML凭借其EXE平台和High-NA技术再次达到了竞争对手无法突破的界限。

ASML最新的年度报告显示,其营收接近310亿美元,业务遍及60多个国家地区,员工超过44000名。

揭秘全球光刻机巨头ASML:从一个漏水棚子起步

揭秘全球光刻机巨头ASML:从一个漏水棚子起步

【本文结束】出处:快科技

作者 zhiyongz

发表回复

您的邮箱地址不会被公开。 必填项已用 * 标注